Công nghệ tạo lớp phủ tiên tiến trên thế giới

Công nghệ do một nhóm nghiên cứu dưới sự lãnh đạo của Tiến sĩ Henry J. Ramos thuộc Viện Vật lý Quốc gia, trường Đại học Philippines Diliman thiết lập, chế tạo được lớp phủ bề mặt có độ cứng như kimcương hoặc lớp phủ hoàn thiện màu vàng có thể sử dụng trong ngành công nghiệp kim loại, chế tạo và bán dẫn. Ida Dalmacio, Giám đốc điều hành Hội đồng Nghiên cứu và Phát triển Khoa học và Công nghệTiên tiến, là cơ quan giám sát dự án của Bộ Khoa học và Công nghệ, đặc biệt quan tâm đến giá trị thương mại cao của các công nghệ này và xác nhận hỗ trợ hoàn toàn về thể chế để tiến tới thương mạihoá công nghệ. Khai thác tiềm năng sử dụng của lade (hoặc khí ion hoá), các công nghệ mới tạo được lớp phủ cao cấp bằng kim cương hoặc vật liệu giống kim cương (Diamond-Like-Coating - DLC), ziriconimononitrua (ZrN) và titan nitrua (TiN). Các lớp phủ này có thể phủ lên kim loại và các chất nền khác, tạo cho vật liệu độ bền và độ chịu mài mòn cao hơn. Vật liệu cứng nhất được biết là kim cương,tạo được lớp phủ tuyệt hảo cho công cụ mài và đầu công cụ cắt gọt. Công cụ cắt gọt được phủ kim cương cũng được sử dụng trong gia công cắt gọt và khắc các vật liệu gạch, thuỷ tinh, v.v... Các màngcacbon giống kim cương cũng là vật liệu cửa sổ lý tưởng cho tia X và các bức xạ khác như tia cực tím, hồng ngoại và vi sóng.

Theo Tiến sĩ Ramos, một loại vật liệu rẻ hơn màng kim cương nhiều là màng titan nitrua, có thể phủ lên nhiều loại vật liệu khác nhau. Màng này được sử dụng rộng rãi do tạo được độ cứng và độ chịu mònđáng kể cho công cụ và lại rẻ hơn rất nhiều so với màng giống kim cương. Trong khi đó, màng ZrN được sử dụng trong những ứng dụng khác nhau, như làm vật liệu chặn khuếch tán, nhiệt kế độ lạnh, vậtliệu liên kết Josephson hoặc đơn giản là một lớp phủ cứng. Loại vật liệu phủ này được đánh giá tốt do có độ cứng, độ chịu ăn mòn, độ ổn định cao và điện trở suất thấp.

Tiến sĩ Ramos cũng cho biết, các lớp phủ tạo được bằng thiết bị plasma "thể hiện một cách tiếp cận mới" và có nhiều ưu thế so với các kỹ thuật hiện nay. Không giống như các thiết bị khác, thiết bịplasma không đòi hỏi nhiệt độ rất cao có thể gây tổn hại bề mặt của vật liệu cần tạo lớp phủ. Ngoài ra, có thể kiểm soát được thông lượng và năng lượng của các ion, cho phép tạo lớp phủ có chất lượngđồng đều hơn.

Nguồn: Tech Monitor, 1-2/2003